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여기서는 Spatial Sampling Distance (공간 샘플링 거리) 오버라이드 파라미터를 사용하여 모든 오브젝트의 (단순화 전) 메시를 다시 입히는 작업을 할 때 시스템이 캡처할 피처 최소 크기를 수동 조정하는 방법을 살펴봅니다.

단계

1. 먼저 언리얼 엔진 4 (UE4) 레벨에서 스태틱 메시를 몇 개 선택합니다.
   

2. 선택한 상태에서 창 > 개발자 툴 의 Merge Actors (액터 병합) 툴을 선택합니다.
   

3. 액터 병합 툴이 열리면, 2nd (두 번째) 아이콘을 클릭하여 Proxy Geometry (프록시 지오메트리) 툴에 액세스합니다. 그리고 Proxy Settings (프록시 세팅) 아래 Material Settings (머티리얼 세팅) 섹션을 펼칩니다.
   

4. Override Spatial Sampling Distance (공간 샘플링 거리 오버라이드) 파라미터를 찾아 그 이름 옆 박스를 클릭하여 활성화합니다.
   

5. Override Spatial Sampling Distance 값을 100 으로 설정한 다음 액터 병합 버튼을 누릅니다.
   
   

   기본적으로 시스템은 지오메트리의 바운딩 박스 크기와 요청된 Screen Size (화면 크기)에 따라 이 추측 크기를 계산합니다. 창 > 개발자 툴 > 출력 로그 를 보면 시스템에 사용된 실제 숫자가 출력되는 것을 볼 수 있습니다. 이 숫자가 클 수록 단순화가 덜, 작을 수록 더 이루어집니다.

6. 새로 생성할 스태틱 메시의 이름와 위치를 지정한 뒤 저장 버튼을 누르면 프록시 지오메트리 생성 프로세스가 시작됩니다.
   

최종 결과

프로세스가 완료되면 첫 단계에서 선택한 모든 스태틱 메시에 대한 새로운 스태틱 메시, 머티리얼, 텍스처가 생깁니다. 아래 이미지는 생성된 메시의 Override Spatial Sampling Distance 를 다양한 값으로 설정했을 때의 효과를 보여줍니다.