粒子系统类

说明基础 ParticleSystem 类属性的技术参考。

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ParticleSystem 是一个包含任何数量 ParticleEmitters 的完整粒子特效。在一个系统中应用多个发射器后,设计师可以创建出精美细致的粒子特效,并存放于单个系统中。使用级联完成创建后,即可将 ParticleSystem 置于关卡中或创建于脚本中。

ParticleSystem 类包含下列公共变量:

属性

描述

ParticleSystem

SystemUpdateMode

此列举说明系统更新其发射器所使用的方法。有两种模式可用:

模式

描述

EPSUM_RealTime

实时更新发射器。

EPSUM_FixedTime

以固定时间步长更新发射器。它将系统锁定在游戏的更新时间上,并依赖于运行性能。帧率越低,系统更新时间则更低(即更新时间减慢);反之,帧率越高,更新时间则更快。通常仅用于特殊情况。

`EPSUM_FixedTime`将无视当前帧率为系统设置特定时间步长。该模式仅用于特效时间并非另一个系统关键因素的情况下 – 比如将发射器绑定到一个动画上。

UpdateTime_FPS

EPSUM_FixedTime 中运算时所使用的时间步长。

WarmupTime

粒子系统启动时所需的准备时间。它可使发射器从开始便全力发射。但运行性能将受到影响,建议不要大量使用,尤其是数值较高时。对关卡最初加载时便已开始运行的系统(如烟柱或环境特效)而言使用效果较好。

Warmup Tick Rate

在系统准备期间控制每个标记的时间步长。增加该数值可提升性能,减少该数值可提高精度。数值 0 表示默认标记时间。

Orient ZAxis Toward Camera

如为 true , ParticleSystem 的局部 Z 轴将保持对准相机。

SecondsBeforeInactive

如这段时间内(以秒为单位)没有对粒子系统进行渲染,其将进入不活动状态,不再接受标记。输入 0 值,防止系统被强制变为不活动状态。

Thumbnail

ThumbnailWarmup

勾选 使用实时缩略图(Use Real-Time Thumbnail) 后,捕捉缩略图画面之前的系统预热时间。

Use Real-Time Thumbnail

如为 true ,将使用默认相机位置自动捕捉 ParticleSystem 资源在 Content Browser Content Browser

LOD

LOD Distance Check Time

确定系统执行一次距离检测的时间频率(以秒为单位),以明确使用的 LOD 级别。(仅在 LODMethod 设为 Automatic 时使用)。

LOD Method

此枚举值说明了系统选择适当 LOD 级别时所使用的方法。有三种方法可用:

方法

描述

Automatic

基于 LOD 距离和检测时间自动设置 LOD 级别。

DirectSet

游戏将直接为系统设置使用的 LOD 级别。

ActivateAutomatic

激活时决定 LOD 级别。除非游戏代码直接设置,其将保持不变。

LODDistances

确定使用 LOD 级别的距离阵列。(仅在 LODMethod 设为 Automatic 时使用)。这些数值将提供选择 LOD 级别的推荐最小距离。例如,3 种 LOD 级别的粒子系统:

LODDistanceIndex

范围

所选 LOD 级别

0

0.0

0.0 - 2499.9

0 (最大值)

1

2500.0

2500.0 - 4999.9

1

2

5000.0

5000.0 - 无限

2

LODSettings

一种结构阵列,决定每个 LOD 使用的特定设置。当前使用指定 LOD 时,唯一的设置 Lit 用于控制 ParticleSystem 是否接受光照。

Bounds

Use Fixed Relative Bounding Box

如为 true ,代码将使用 Fixed Relative Bounding Box 作为粒子系统的边界。

Fixed Relative Bounding Box

右键单击

Delay

Delay

执行 ActivateSystem() 时 ParticleSystem 在激活前的等待时间(以秒数计)。同时,当 Use Delay Range true 时,该值为随机延迟值的范围上限。

Delay Low

Use Delay Range true 时,该值为随机延迟值的范围下限。

Use Delay Range

如为 true Delay Low Delay 之间的随机值被选为实际延迟值使用。

MacroUV

Macro UV Position

相对于 ParticleSystem 的局部空间位置作为中心点,生成 ParticleMacroUV 材质表现的 UV 纹理坐标。

Macro UV Radius

它是决定着 Macro UV Position 距离的全局空间半径,在此位置上生成的 ParticleMacroUV 材质表现纹理坐标将开始铺制。

Occlusion

Occlusion Bounds Method

计算 ParticleSystem 遮挡时所用方法。

方法

描述

EPSOBM_None

不计算 ParticleSystem 的遮挡。

EPSOBM_ParticleBounds

用于计算 ParticleSystem 遮挡的 ParticleSystemComponent 边界。

EPSOBM_CustomBounds

Custom Occlusion Bounds 值用于计算 ParticleSystem 的遮挡。

Custom Occlusion Bounds

使用 EPSOBM_CustomBounds Occlusion Bounds Method 时,用于计算遮挡的边界。

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