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여기서는 Spatial Sampling Distance (공간 샘플링 거리) 오버라이드 파라미터를 사용하여 모든 오브젝트의 (단순화 전) 메시를 다시 입히는 작업을 할 때 시스템이 캡처할 피처 최소 크기를 수동 조정하는 방법을 살펴봅니다.
단계
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먼저 언리얼 엔진 4 (UE4) 레벨에서 스태틱 메시를 몇 개 선택합니다.
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선택한 상태에서 창 > 개발자 툴 의 Merge Actors (액터 병합) 툴을 선택합니다.
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액터 병합 툴이 열리면, 2nd (두 번째) 아이콘을 클릭하여 Proxy Geometry (프록시 지오메트리) 툴에 액세스합니다. 그리고 Proxy Settings (프록시 세팅) 아래 Material Settings (머티리얼 세팅) 섹션을 펼칩니다.
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Override Spatial Sampling Distance (공간 샘플링 거리 오버라이드) 파라미터를 찾아 그 이름 옆 박스를 클릭하여 활성화합니다.
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Override Spatial Sampling Distance 값을 100 으로 설정한 다음 액터 병합 버튼을 누릅니다.
기본적으로 시스템은 지오메트리의 바운딩 박스 크기와 요청된 Screen Size (화면 크기)에 따라 이 추측 크기를 계산합니다. 창 > 개발자 툴 > 출력 로그 를 보면 시스템에 사용된 실제 숫자가 출력되는 것을 볼 수 있습니다. 이 숫자가 클 수록 단순화가 덜, 작을 수록 더 이루어집니다.
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새로 생성할 스태틱 메시의 이름와 위치를 지정한 뒤 저장 버튼을 누르면 프록시 지오메트리 생성 프로세스가 시작됩니다.
최종 결과
프로세스가 완료되면 첫 단계에서 선택한 모든 스태틱 메시에 대한 새로운 스태틱 메시, 머티리얼, 텍스처가 생깁니다. 아래 이미지는 생성된 메시의 Override Spatial Sampling Distance 를 다양한 값으로 설정했을 때의 효과를 보여줍니다.