默认必需的模块和生成模块

发射器随附且其功能所必需的模块。

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本页面的内容

创建新的发射器时,以下类和模块始终存在。它们始终存在,不能被删除。

必需模块

每个粒子发射器都包含这个模块,其中包含粒子发射器所需的所有属性。包括:

属性

说明

发射器

材质

要应用于粒子的材质。

发射器原点

3D空间中将从该发射器发射出粒子的点,除非其他模块另有指定。

发射器旋转

应用于发射器自身的局部旋转。

屏幕对齐

粒子相对于摄像头的朝向。允许以下模式:

标志

描述

面向摄像机位置

粒子将旋转以面向摄像机位置,但将忽略摄像机旋转。

正方形

等分缩放(强制为X设置),面向摄像机。

矩形

非等分缩放,面向摄像机。

速度

让粒子面向摄像机和粒子的移动方向。不允许非等分缩放。

类型特定

使用类型数据模块中指示的对齐方法。(仅限网格体)

使用局部空间

指示粒子发射器是(true)否(false)应用其父代的场景变换。如果为_true_,粒子发射器将在局部空间执行所有操作。

停用时终止

指示粒子发射器是否应在停用时终止所有粒子。如果为_false_,任何存活粒子将在发射器停用时终止其生命。

完成时终止

指示粒子系统组件应在完成时终止该发射器实例。

排序模式

用于发射器的排序模式。

模式

说明

PSORTMODE_无

不执行排序。

PSORTMODE_视图投影

根据视图投影按深度对粒子排序。

PSORTMODE_距离到视图

在场景空间中,按粒子到摄像机的距离对粒子排序。

PSORTMODE_年龄_最老优先

按年龄对粒子排序,最先绘制的粒子排在前面。

PSORTMODE_年龄_最新优先

按年龄对粒子排序,最新绘制的粒子排在前面。

使用传统发射器时间

如果为_true,则发射器的EmitterTime将通过用EmitterDuration调制SecondsSinceCreation来计算。由于这对循环和可变持续时间会导致问题,因此实现了一种新方法。如果为_false,将使用这种新方法,发EmitterTime只需要在每个tick增加DeltaTime。当发射器循环时,它按当前EmitterDuration调整EmitterTime,产生正确的循环/延迟行为。

轨道模块影响速度调整

如果为_true_,则轨道模块生成的运动应用于速度一致的粒子。

持续时间

发射器持续时间

指示发射器在循环前运行的时间,以秒为单位。如果设置为0,发射器将永不循环。

发射器持续时间低

指定允许在发射器持续时间内变化的发射器持续时间的低端。

发射器持续时间使用范围

当为_true_时,发射器将在启动时从_EmitterDurationLow_到_EmitterDuration_的范围内选择持续时间。

每次循环重新计算持续时间

当为_true_时,发射器将在循环时从_EmitterDurationLow_到_EmitterDuration_的范围内选择一个新的持续时间。

发射器循环

进入不活动之前循环的次数。如果设置为0,发射器将持续运行,“永远”循环。

延迟

发射器延迟

延迟启动发射器的时间。允许在单个粒子系统内“交错”发射器。这也相当于使用范围时选择随机延迟值的上限。

发射器延迟低

使用范围时选择随机延迟值的下限。

发射器延迟使用范围

如果为_true_,发射器的有效延迟值将是从范围[发射器延迟低, 发射器延迟]中选择的随机值。

仅第一个循环延迟

当为_true_时,EmitterDelay大于0、EmitterLoops大于1的发射器将仅在第一次循环时执行延迟。

子UV

子UV数据指示发射器应利用所应用纹理的子图像。这对于在粒子上实现简单动画十分有用。

插值方法

指示用来在子图之间插值的方法的列举。可以是以下某个值:

方法

说明

不对该发射器应用子UV模块。

线性

按给定顺序,平滑地在子图之间过渡,而不混合当前子图和下一个子图。

线性_混合

按给定顺序,平滑地在子图之间过渡,混合当前子图和下一个子图。

随机

随机选取下一个图像,不混合当前图像和下一个图像。

随机_混合

随机选取下一个图像,混合当前图像和下一个图像。

子图_水平

纹理水平轴(x)上的纹理中的子图数量。

子图_垂直

纹理垂直轴(y)上的纹理中的子图数量。

缩放UV

指示应缩放UV值以正确`适应子图尺寸。这仅用于网格体发射器。

随机图像更改

在插值方法设置为随机时,在粒子生命周期内更改图像的次数。

宏UV

宏UV分段指示发射器应利用宏UV,允许单个图像连续地映射到多个粒子,而不是每个粒子单独映射。请注意,要利用这个功能,应用于粒子的材质必须利用_ParticleMacroUV_材质表达式节点。

覆盖系统宏UV

如果为_true_,这里的设置将覆盖系统宏UV设置,可以通过取消选择级联发射器列表中的所有发射器和模块来查看。

宏UV位置

局部空间位置,所有宏UV计算都始于这个位置。

宏UV半径

场景半径,超过这个半径的所有宏UV材质将开始平铺。

渲染

使用最大绘制计数

当为_true_时,发射器永远不会绘制超过“最大绘制计数”数量的粒子。所有粒子在tick时仍会更新。

最大绘制计数

限制渲染到的粒子数量。

UV翻转模式

以多种不同的方式启用Sprite和GPU粒子UV翻转。

模式

说明

不发生UV翻转。这是默认值。

翻转UV

翻转U和V纹理坐标。

仅U

仅翻转U纹理坐标。

仅V

翻转V纹理坐标。

随机翻转UV

在产生时间同时随机翻转U和V。

仅随机翻转U

在产生时间仅随机翻转U。

仅随机翻转V

在产生时间仅随机翻转V。

独立随即翻转UV

在产生时间单独随机翻转U和V。

法线

发射器法线模式

用于为该发射器LOD生成法线的模式。

模式

说明

ENM_面向摄像机

默认模式,法线基于面向摄像机的几何体。

ENM_球体

从以法线球体中心为中心的球体生成法线。

ENM_圆柱体

从圆柱体生成法线,穿过法线球体中心,沿着法线圆柱体方向。

法线球体中心

当_发射器法线模式_设置为_ENM_球形_,则创建的粒子法线是背对_法线球体中心_远离。该值位于局部空间。

法线圆柱体方向

当_发射器法线模式_为_ENM_圆柱体_时,则创建的粒子法线是背对圆柱体远离,穿过_法线球体中心_,沿着_法线圆柱体方向_移动。该值位于局部空间。

产生模块

每个粒子发射器都包含这个模块,其中包含用于确定如何产生粒子的所有属性。包括:

属性

说明

产生

速度

该浮点分布提供给定时间发射器的粒子产生速度(每秒粒子数)。

速度比例

应用于发射器的_速度_的比例因子。

处理产生速度

如果为_true,将处理_速度。如果有多个产生模块“堆叠”在发射器中,并且有任何一个模块禁用了这个属性,则不会处理发射器的_速度_。

爆发

爆发数据指示发射器应在设定的时间强制发射指定数量的粒子。这个过程涉及以下成员:

粒子爆发方法

通过爆发发射粒子时所用的方法。当前忽略。

爆发列表

一个整数数组,包括“计数”、“计数低”和浮点时间值,用于确定所需的粒子爆发。在发射器生命周期内,时间位于[0..1]范围内。如果“计数低”设置为-1,发射且将在给定时间爆发出“计数”数量的粒子。否则,发射器将在给定时间在范围[计数低..计数]范围内爆发出随机数量的粒子。

处理爆发列表

如果为_true,将处理_爆发列表。如果有多个产生模块“堆叠”在发射器中,并且有任何一个模块禁用了这个属性,则不会处理发射器的_爆发列表_。

爆发比例

按这个数量调节所有爆发条目。

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